1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library and Information Center of the University of Mohaghegh Ardabili (Ardabil)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry-- Industrial applications
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Mazandaran University (Mazandaran)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
4. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: Central Library, Center of Documentation and Supply of Scientific Resources (East Azarbaijan)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: Central Library and Documents Center of Industrial University of Khaje Nasiredin Toosi (Tehran)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A.
کتابخانه: Library of Institute for Research in Fundamental Sciences (Tehran)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9L53
2005
